台積電聯手輝達 AI顛覆晶片製造技術的未來
為加速製造並突破下一代先進半導體晶片的物理極限，台積電近日宣布，將採用輝達的cuLitho運算式微影平台進行生產。台積電與輝達的合作，展示了兩大科技巨頭在半導體技術上的緊密合作，標誌著半導體製造的一個重要里程碑，帶來了尖端運算技術與AI結合的潛力，為推動科技進步開創了全新局面。
編譯／莊閔棻
為加速製造並突破下一代先進半導體晶片的物理極限，台積電近日宣布，將採用輝達的cuLitho運算式微影平台進行生產。台積電與輝達的合作，展示了兩大科技巨頭在半導體技術上的緊密合作，標誌著半導體製造的一個重要里程碑，帶來了尖端運算技術與AI結合的潛力，為推動科技進步開創了全新局面。
運算式微影的重要角色
據報導，運算式微影是一個將電路轉移到矽片上的關鍵過程，涉及複雜的電磁物理、光化學和分布式運算，由於運算式微影的運算需求極高，長期以來成為半導體製造的瓶頸，每年耗費數十億小時的CPU運算，傳統上，製造一組晶片光罩需要超過3000萬小時的CPU運算時間，使這一過程既耗時又昂貴。
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輝達cuLitho平台的技術進步
而輝達的cuLitho平台引入了加速運算技術，用350台輝達H100 Tensor Core GPU系統取代4萬台傳統CPU系統，大幅縮短生產時間，降低成本及資源消耗，使台積電能夠在現有的半導體製造能力上更上一層樓。台積電執行長魏哲家強調，GPU加速運算的整合是性能的一大飛躍，不僅提高了吞吐量，還縮短了生產周期，降低了功耗。
生成式AI融入cuLitho平台
GPU加速運算與AI的結合，正在徹底改變半導體微影領域。除了加速運算，輝達還將生成式AI融入cuLitho平台，進一步提升了光罩的生成效率，生成式AI將光學臨近校正過程的速度提高了兩倍，幫助生成近乎完美的反向光罩，並且更有效地考慮光的繞射問題，使傳統方法設計光罩更為快速。
運算式微影對半導體產業的影響
運算式微影的顯著加速，縮短了新技術節點開發的整體生產周期，讓光罩的製作更加迅速，藉由cuLitho平台，像反向光學微影這類過去因時間限制而無法實現的技術，如今已經成為可能，為下一代強大半導體的製造鋪平了道路。
參考資料：blockchain
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