挑戰西方晶片霸權！中國推動「曼哈頓計畫」 傳深圳秘密研發EUV原型機
根據外媒《路透社》掌握的獨家消息，中國科學家在深圳一處戒備森嚴的實驗室中，已經製造出一台極紫外光（EUV）曝光機的原型機。這項被視為中國版「曼哈頓計畫」的秘密行動，目的在突破美國的技術封鎖，生產用於AI、智慧型手機及先進武器的高階晶片。
根據外媒《路透社》掌握的獨家消息，中國科學家在深圳一處戒備森嚴的實驗室中，已經製造出一台極紫外光（EUV）曝光機的原型機。這項被視為中國版「曼哈頓計畫」的秘密行動，目的在突破美國的技術封鎖，生產用於AI、智慧型手機及先進武器的高階晶片。
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中國版「曼哈頓計畫」目的在突破美國的技術封鎖，生產高階晶片。(圖／123RF)[/caption]
ASML前員工助陣 逆向工程打造原型
消息人士透露，這台原型機於2025年初完成，目前正在進行測試，其體積龐大，幾乎佔據了整個工廠樓層。該項目由一組來自荷蘭半導體巨頭ASML的前工程師團隊主導，他們透過逆向工程技術，試圖複製ASML被西方壟斷的EUV曝光機技術。
EUV曝光機是美中科技冷戰的核心，利用極紫外光束在矽晶圓上刻蝕出比人類頭髮細數千倍的電路。電路越微小，晶片的效能就越強大。目前，中國這台機器已能成功產生極紫外光，但尚未能生產出可運作的晶片。
儘管ASML執行長Christophe Fouquet曾在4月表示中國需要「非常多年」才能開發出此類技術，但這台原型機的存在顯示，中國在實現半導體自主的進程上，可能比分析師預期的要快上許多年。
量產仍有距離 中國目標鎖定2030年
然而，中國仍面臨巨大的技術挑戰，特別是在複製西方供應商生產的精密光學系統方面。知情人士指出，中國政府設定的目標是在2028年利用該原型機生產出可運作的晶片，但接近該項目的內部人士認為，2030年是較為實際的目標。這仍比分析師預測中國需要10年才能追上西方的時間表大幅提前。
這項突破是中國政府為期6年的半導體自給自足計畫的高潮，也是習近平主席的首要任務之一。據悉，該項目由習近平親信、中共中央科技委員會主任丁薛祥負責，並由中國電子巨頭華為（Huawei）在其中扮演關鍵協調角色，統籌全國數千名工程師與研究機構。
為了達成目標，中國採取了激進的手段。消息人士描述，該項目如同二戰時期美國開發原子彈的「曼哈頓計畫」，目標是將美國勢力「100%踢出供應鏈」。
為了獲取技術，中國自2019年起積極招募海外半導體專家，提供300萬至500萬人民幣（約42萬至70萬美元）的簽約金及購房補貼。團隊中包含許多剛退休、中國出生的前ASML工程師。
為了保密，這些工程師在進入深圳設施時會獲得假名與假身分證，並被要求在工作中使用假名，以防被其他員工識破身分。這是一個國家安全級別的機密項目，外部無人知曉他們在建造什麼。
拆解舊機拼湊零件 光學系統成最大瓶頸
由於無法獲得德國蔡司（Carl Zeiss AG）等ASML關鍵供應商的光學系統，中國的研究人員利用從二手市場取得的舊款ASML機器零件，以及透過中間商網絡獲取的Nikon和Canon受限組件來拼湊原型機。
消息人士稱，中國的原型機為了提升功率，體積比ASML重達180噸的機器還要大上數倍，雖然構造相對粗糙，但已足以進行測試。目前，中國科學院長春光學精密機械與物理研究所（CIOMP）已在整合極紫外光到光學系統上取得突破，使機器得以在2025年初運作，但光學系統仍需大幅改良。
華為全員動員 員工以廠為家
華為在整個供應鏈中參與甚深，從晶片設計、製造設備到最終整合。華為執行長任正非會定期向中國高層領導匯報進度。為了趕工，華為派遣員工進駐全國各地的辦公室與研究中心，許多半導體團隊成員在工作週間必須睡在現場，禁止返家，且通訊受到嚴格限制。
截至目前，ASML、華為及中國相關政府部門均未對此消息做出回應。
資料來源：路透社
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