華為麒麟9030挑戰DUV多重曝光極限 SMIC以設計優化突破EUV封鎖黃仁杰 (2025-12-17 11:04:38)

華為最新行動晶片麒麟 9030 近期引發半導體產業高度關注，不僅因其搭載於 Mate 80 與 Mate X7 新機，更因這顆晶片成為華為海思與中芯國際（SMIC）在美國長年限制 EUV 先進微影設備出口背景下，展現技術突破的重要案例。記者黃仁杰／編譯

華為最新行動晶片麒麟 9030 近期引發半導體產業高度關注，不僅因其搭載於 Mate 80 與 Mate X7 新機，更因這顆晶片成為華為海思與中芯國際（SMIC）在美國長年限制 EUV 先進微影設備出口背景下，展現技術突破的重要案例。

[caption id="attachment_201378" align="aligncenter" width="2048"]

華為最新行動晶片麒麟 9030 近期引發半導體產業高度關注。(圖／華為提供)[/caption]

根據半導體研究機構 TechInsights 拆解分析，麒麟 9030 採用 SMIC 的 N+3 製程節點，屬於在第二代 7 奈米（N+2）基礎上的延伸版本。TechInsights 指出，N+3 並非真正等同台積電或三星的 5 奈米製程，而是介於 7 奈米與 5 奈米之間，主要透過 DUV（深紫外）多重曝光與設計與製程共同最佳化（DTCO）技術實現。

TechInsights 認為，SMIC 在麒麟 9030 上並未大幅縮小前段製程（FEOL）中關鍵的鰭片間距、閘極間距與電晶體幾何結構，而是將重心放在後段製程（BEOL），也就是電晶體間的金屬互連層，藉由更密集且精準的佈線來取得有限的製程進步。

這種做法雖能在缺乏 EUV 設備下持續推進製程，但也伴隨顯著風險。由於 DUV 多重曝光需要高度精準的層對齊，任何微小誤差都可能導致線寬粗糙度上升與缺陷率增加，進而影響良率，一旦控制不當，製程穩定性將快速惡化。

TechInsights 也指出，麒麟 9030 顯示 SMIC 的策略已從單純追求節點微縮，轉向更嚴謹的設計紀律與系統層級優化。透過 DTCO，同步調整晶片架構、製程條件與良率管理，試圖在 DUV 技術天花板下榨取最大效能。然而，這類設計優化的提升空間相對有限，長期仍難以取代 EUV 帶來的製程飛躍。

分析認為，SMIC 未來仍可透過先進封裝技術進一步改善效能與能效表現，但對於以行動裝置為主的應用處理器（AP）而言，封裝帶來的助益有限。麒麟 9030 的意義，更多在於證明中國半導體產業正以設計能力與製程整合，試圖突破先進設備封鎖下的技術邊界。

這篇文章 華為麒麟9030挑戰DUV多重曝光極限 SMIC以設計優化突破EUV封鎖 最早出現於 科技島-掌握科技新聞、科技職場最新資訊。